氮?dú)鉂崈艉嫦?nbsp; 光刻膠無(wú)塵烘箱   百級(jí)烘箱工藝

    不同的勻膠轉(zhuǎn)速，對(duì)應(yīng)不同的光刻膠厚度，厚度越大，由于曝光的穿透深度以及光的衍射，光刻的分辨率就會(huì)越低，并且會(huì)在光刻膠側(cè)壁形成明顯的梯形。厚度太薄的話，在刻蝕的時(shí)候會(huì)被刻穿，要根據(jù)需要刻蝕的深度選擇合適的光刻膠厚度，從而選擇合適的轉(zhuǎn)速

在勻膠結(jié)束后，使用溫度95°烘5min來(lái)提高光刻膠的致密性以及與晶圓的粘附性。

氮?dú)鉂崈艉嫦?nbsp; 光刻膠無(wú)塵烘箱   百級(jí)烘箱指標(biāo)

潔凈度：Class100、1000     

溫度：RT+15～200/300/400℃；
氣體：N2 

計(jì)時(shí)功能：可選 

設(shè)備材質(zhì)：內(nèi)部SUS304不銹鋼           

工作尺寸（mm）：

450×450×500

500×500×550

600×700×800

（可定制）          

網(wǎng)板：活動(dòng)式2-5塊

運(yùn)行模式：定值或程式

操作界面：按鍵或彩色觸摸屏

氮?dú)鉂崈艉嫦?nbsp; 光刻膠無(wú)塵烘箱用途

適用于IC封裝、光刻膠固化、銀膠固化、電子液晶顯示、LCD、CMOS、MEMS、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研.

驅(qū)趕膠中的溶劑

提高膠對(duì)襯底的黏附性

提高膠的抗腐蝕能力

優(yōu)化膠的光學(xué)吸收特性

提高涂膠的均勻性

提高條寬控制能力

通過(guò)前烘，基片上的光刻膠基本固化。